30Khz कम पावर अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन स्कैटरिंग स्प्रे नोजल अनुकूलित

 

30 किलोहर्ट्ज़ लो पावर अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन स्कैटरिंग स्प्रे नोजल एकसमान और विस्तृत स्प्रे पैटर्न उत्पन्न करने के लिए कम दबाव वाली हवा/गैस का अनुकूलित उपयोग करते हैं, प्रत्येक नोजल सब्सट्रेट से दूरी के आधार पर अधिकतम 9.8 इंच (25 सेंटीमीटर) तक पहुंचता है। उत्पाद या सब्सट्रेट पर परमाणु स्प्रे के कम या उच्च प्रभाव की अनुमति देने के लिए वायु प्रवाह की गति को नियंत्रित किया जा सकता है। श्रृंखला में एकाधिक नोजल का उपयोग करके अनंत चौड़ाई प्राप्त की जा सकती है। स्कैटरिंग नोजल डिज़ाइन का उपयोग पतले नोजल में उच्च दोहराव वाले विस्तृत पैटर्न के लिए किया जाता है।

30Khz लो पावर अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन स्कैटरिंग स्प्रे नोजल का विशिष्ट अनुप्रयोग सेमीकंडक्टर चिप्स पर फोटोरेसिस्ट कोटिंग है, जहां फोटोरेसिस्ट को सेमीकंडक्टर चिप्स पर स्प्रे किया जाता है। स्कैटरिंग प्रकार के अल्ट्रासोनिक नोजल द्वारा उत्सर्जित धुंध के घूर्णी प्रकीर्णन के कारण, एक समान फोटोरेसिस्ट फिल्म न केवल वेफर विमान पर बनाई जा सकती है, बल्कि वेफर माइक्रोस्ट्रक्चर के साइडवॉल और कोनों पर भी बनाई जा सकती है। इसके अलावा, बिखरने वाले अल्ट्रासोनिक नोजल का उपयोग पतली फिल्म सौर सेल कोटिंग्स, कैल्शियम टाइटेनेट सौर सेल कोटिंग्स, एआर ट्रांसमिशन और प्रतिबिंब फिल्म कोटिंग्स, इन्सुलेशन फिल्म कोटिंग्स, सुपरहाइड्रोफोबिक कोटिंग कोटिंग्स, पीसीबी फ्लक्स कोटिंग्स और अन्य अनुप्रयोगों के लिए भी किया जा सकता है।

 

 

 

1. बड़ी सतह पर छिड़काव, छिड़काव की चौड़ाई: 40-150 मिमी

2. Coating uniformity:>95% एकरूपता

3. कच्चे माल की बचत: कच्चे माल की उपयोग दर 85% से अधिक है, जो पारंपरिक दो द्रव छिड़काव से 4 गुना अधिक है

4. कोटिंग मोटाई नियंत्रण में उच्च परिशुद्धता: कोटिंग मोटाई के सटीक नियंत्रण के साथ, 20nm से लेकर दसियों माइक्रोमीटर तक की कोटिंग तैयार कर सकते हैं

5. बारीक परमाणुकृत कण

6. कणों का एकसमान परमाणुकरण

7. इसका छिड़काव रुक-रुक कर या लगातार किया जा सकता है

8. अति निम्न स्प्रे प्रवाह

9. नोजल को अवरुद्ध नहीं करेगा

10. संक्षारण रोधी नोजल

11. उच्च परिशुद्धता और नियंत्रणीय छिड़काव

 

1. अल्ट्रासोनिक आवृत्ति
कम चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
फ़्रिक्वेंसी सेटिंग: नाजुक परमाणुकरण प्रभाव सुनिश्चित करने के लिए उच्च आवृत्तियों (जैसे 40kHz या उच्चतर) का उपयोग किया जा सकता है।
उच्च चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
फ़्रिक्वेंसी सेटिंग: तरल की कंपन तीव्रता को बढ़ाने और परमाणुकरण प्रभाव में सुधार करने के लिए आवृत्ति (जैसे 30kHz) को कम करना आवश्यक हो सकता है।
2. नोजल दबाव
कम चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
दबाव सेटिंग: आम तौर पर, कम नोजल दबाव (जैसे 0.1-0.3 एमपीए) का उपयोग किया जा सकता है क्योंकि तरल में परमाणुकरण की संभावना होती है।
उच्च चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
दबाव सेटिंग: तरल की उच्च चिपचिपाहट पर काबू पाने और अच्छा छिड़काव प्रभाव सुनिश्चित करने के लिए नोजल दबाव (जैसे 0.3-0.5 एमपीए) बढ़ाना आवश्यक हो सकता है।
3. स्प्रे गति
कम चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
गति सेटिंग: ओवरकोटिंग और टपकन को रोकने के लिए छिड़काव की गति को उचित रूप से बढ़ाया जा सकता है।
उच्च चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
गति सेटिंग: एक समान कोटिंग सुनिश्चित करने और टपकने या सैगिंग को रोकने के लिए छिड़काव की गति कम की जानी चाहिए।
4. कोटिंग की मोटाई
कम चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
मोटाई सेटिंग: कोटिंग की मोटाई अपेक्षाकृत पतली हो सकती है, आमतौर पर कुछ माइक्रोमीटर की सीमा में।
उच्च चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
मोटाई सेटिंग: थोड़ी मोटी कोटिंग सेट की जा सकती है, आमतौर पर कुछ माइक्रोमीटर और एक दर्जन माइक्रोमीटर के बीच।
5. पर्यावरण का तापमान और आर्द्रता
तापमान:
उच्च तापमान आम तौर पर प्रतिरोध की चिपचिपाहट को कम करता है, जो छिड़काव के लिए सहायक होता है; लेकिन यह सुनिश्चित करना आवश्यक है कि यह प्रतिरोध की ताप प्रतिरोधी सीमा से अधिक न हो।
नमी:
इसे उचित सीमा के भीतर रखा जाना चाहिए, क्योंकि अत्यधिक आर्द्रता संक्षारण अवरोधक के इलाज के प्रदर्शन को प्रभावित कर सकती है।
6. कोटिंग का समय
कम चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
अपनी अच्छी तरलता के कारण यह कोटिंग के समय को कम कर सकता है।
उच्च चिपचिपापन संक्षारण अवरोधक:
एकसमान कोटिंग सुनिश्चित करने के लिए कोटिंग का समय बढ़ाना आवश्यक हो सकता है

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

लोकप्रिय टैग: 30 किलोहर्ट्ज़ लो पावर अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन स्कैटरिंग स्प्रे नोजल अनुकूलित, चीन 30 किलोहर्ट्ज लो पावर अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन स्कैटरिंग स्प्रे नोजल अनुकूलित निर्माता, आपूर्तिकर्ता, कारखाने