अल्ट्रासोनिक फोटोवोल्टिक सेल छिड़काव

 

 

 

अल्ट्रासोनिक फोटोवोल्टिक सेल छिड़काव एक नवीन तकनीक है जिसका उपयोग मुख्य रूप से फोटोवोल्टिक कोशिकाओं की सतह पर फोटोवोल्टिक सामग्रियों के समान रूप से छिड़काव के लिए किया जाता है। यह विधि छिड़काव किए गए सामग्री कणों को महीन और अधिक समान बनाने के लिए अल्ट्रासोनिक कंपन द्वारा उत्पन्न परमाणुकरण प्रभाव का उपयोग करती है, जिससे फोटोवोल्टिक कोशिकाओं की फोटोइलेक्ट्रिक रूपांतरण दक्षता में सुधार होता है।

अल्ट्रासोनिक फोटोवोल्टिक सेल छिड़काव का उपयोग मुख्य रूप से सौर कोशिकाओं के उत्पादन में किया जाता है; इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों का भूतल उपचार; अन्य क्षेत्र जहां कोटिंग की आवश्यकता होती है, जैसे कि जंग रोधी, वॉटरप्रूफिंग, आदि।

 

 

 

 

 

1. एकसमान कोटिंग

अल्ट्रासोनिक छिड़काव एक समान कोटिंग का उत्पादन कर सकता है, जिससे यह सुनिश्चित होता है कि फोटोसेंसिटिव कपड़ा फोटोवोल्टिक सेल के फर्श पर समान रूप से फैला हुआ है। यह एकरूपता हल्के प्रतिबिंब और बिखरने को सीमित करने और हल्के अवशोषण को बढ़ाने में मदद करती है।

2. छोटे कण का आकार
अल्ट्रासोनिक तकनीक कोटिंग्स को अत्यंत छोटे कणों में परमाणुकृत कर सकती है, जो जटिल सतह संरचनाओं को बेहतर ढंग से कवर कर सकती है, कोटिंग के प्रभावी सतह क्षेत्र को बढ़ा सकती है, और इस प्रकार प्रकाश कैप्चर क्षमता में सुधार कर सकती है।

3. आसंजन में सुधार

अल्ट्रासोनिक छिड़काव कोटिंग और सब्सट्रेट के बीच सही आसंजन बनाता है, कोटिंग के छिलने और विफलता के खतरे को कम करता है, प्रकाश संवेदनशील परत का संतुलन और मजबूती सुनिश्चित करता है, और दीर्घकालिक दक्षता को बढ़ाता है।

4. कपड़े की बर्बादी कम करें

अल्ट्रासोनिक छिड़काव तकनीकी ज्ञान {{0}कितने प्रभावी ढंग से कोटिंग्स का उपयोग करता है और कपड़े के कचरे को कम करता है। यह अब न केवल विनिर्माण लागत को कम करता है, बल्कि बेहतर फोटोइलेक्ट्रिक रूपांतरण के लिए अधिक फोटोसेंसिटिव पदार्थों का उपयोग करने में भी सक्षम बनाता है।

5. ऑप्टिकल गुणों में सुधार करें

छिड़काव मापदंडों (जैसे आवृत्ति, छिड़काव कोण, आदि) को समायोजित करके, कोटिंग के ऑप्टिकल घरों को अनुकूलित किया जा सकता है, इसकी संप्रेषण और परावर्तनशीलता में सुधार किया जा सकता है, और हल्की शक्ति की रूपांतरण प्रभावशीलता को अतिरिक्त रूप से बढ़ाया जा सकता है।

6. मल्टी लेयर कोटिंग तकनीक
अल्ट्रासोनिक छिड़काव तकनीक का अनुप्रयोग आसानी से बहु-परत कोटिंग डिज़ाइन प्राप्त कर सकता है, जैसे समग्र प्रदर्शन को बढ़ाने के लिए फोटोवोल्टिक कोशिकाओं पर एंटी-रिफ्लेक्शन परत और फोटोसेंसिटिव परत का छिड़काव करना।

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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