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अल्ट्रासोनिक नैनोस्केल प्रवाहकीय ग्लास फिल्म छिड़काव प्रक्रिया
आइटम नंबर: FS650
फ़्रिक्वेंसी: वैकल्पिक के लिए 20-200khz
पावर: 10-100W
स्प्रे एकरूपता: 95% से अधिक या उसके बराबर
समाधान रूपांतरण दर: 95% से अधिक या उसके बराबर
समाधान चिपचिपापन: 30cps से कम या उसके बराबर
परमाणुकृत कण (माध्य मान): 10-45μm (आसुत जल),
नोजल आवृत्ति द्वारा निर्धारित
विवरण:
अल्ट्रासोनिक नैनो स्तर की प्रवाहकीय ग्लास फिल्म छिड़काव प्रक्रिया एक कुशल पतली फिल्म तैयार करने की तकनीक है। यह प्रवाहकीय सामग्रियों (जैसे चांदी, इंडियम टिन ऑक्साइड इत्यादि) को परमाणुकृत करने के लिए उच्च आवृत्ति अल्ट्रासोनिक तरंगों का उपयोग करता है और उन्हें ग्लास सब्सट्रेट की सतह पर समान रूप से स्प्रे करता है, नैनो स्तर की प्रवाहकीय पतली फिल्में बनाता है और अच्छी चालकता और पारदर्शिता के साथ ग्लास पतली फिल्मों का निर्माण करता है।
अल्ट्रासोनिक नैनोस्केल प्रवाहकीय ग्लास फिल्म छिड़काव प्रक्रिया का उपयोग मुख्य रूप से पारदर्शी प्रवाहकीय परतों के साथ टच स्क्रीन के निर्माण के लिए किया जाता है; पारदर्शी इलेक्ट्रोड सामग्री वाले सौर सेल; विभिन्न प्रवाहकीय कनेक्शनों के लिए उपयोग किए जाने वाले इलेक्ट्रॉनिक घटक।
पैरामीटर:

प्रक्रिया तत्व:
1. सामग्री का चयन: प्रवाहकीय सामग्री: सामान्य प्रवाहकीय पदार्थों में इंडियम टिन ऑक्साइड (आईटीओ), जिंक ऑक्साइड (जेडएनओ) को इंडियम, सिल्वर नैनोवायर आदि के साथ मिलाया जाता है; विलायक: प्रवाहकीय सामग्रियों का एक समान फैलाव सुनिश्चित करने के लिए एक उपयुक्त विलायक चुनें।
2. उपकरण विन्यास: अल्ट्रासोनिक छिड़काव उपकरण: अल्ट्रासोनिक जनरेटर, नोजल और तरल आपूर्ति प्रणाली सहित; सब्सट्रेट फिक्सिंग डिवाइस: छिड़काव प्रक्रिया के कुछ बिंदु पर ग्लास सब्सट्रेट की स्थिरता सुनिश्चित करें।
3. स्प्रे पैरामीटर: अल्ट्रासोनिक आवृत्ति: उच्च आवृत्ति अल्ट्रासोनिक तरंगों को आमतौर पर उच्च परमाणुकरण प्रभाव प्राप्त करने के लिए चुना जाता है; स्प्रे दबाव: स्प्रे शुल्क और कोटिंग एकरूपता में हेरफेर करने के लिए स्प्रे तनाव को सही ढंग से समायोजित करें; स्प्रे दूरी: कोटिंग का एक समान जमाव सुनिश्चित करने के लिए नोजल और सब्सट्रेट के बीच की दूरी उचित होनी चाहिए।
4. छिड़काव प्रक्रिया: सब्सट्रेट तैयारी: कांच की सतह को चिकना करें, गंदगी और तेल के दाग से छुटकारा पाएं; सामग्री विन्यास: प्रवाहकीय पदार्थों को शानदार सॉल्वैंट्स में घोलें, और छिड़काव आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए ध्यान बदलें; अल्ट्रासोनिक छिड़काव: नैनोस्केल कोटिंग को आकार देने के लिए उपकरण शुरू करें और प्रवाहकीय पदार्थों को समान रूप से स्प्रे करें; कोटिंग का इलाज: इसके आसंजन और चालकता को बढ़ाने के लिए हीटिंग या पराबैंगनी विकिरण के माध्यम से कोटिंग का इलाज करना।



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