अल्ट्रासोनिक फोटोवोल्टिक सेल छिड़काव

Dec 31, 2024

Ultrasonic Spray Coater 3 -

अल्ट्रासोनिक स्प्रेइंग अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन नोजल तकनीक पर आधारित एक अद्वितीय एटमाइजेशन तकनीक है। स्प्रे की गई सामग्री पहले एक तरल अवस्था में होती है, जो एक समाधान, सोल, निलंबन, आदि हो सकती है। लेपित तरल को एक अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन डिवाइस द्वारा छोटे कणों में परमाणु किया जाता है, और फिर एक निश्चित राशि द्वारा सब्सट्रेट की सतह पर समान रूप से लेपित किया जाता है वाहक गैस की, जिससे एक कोटिंग या कोटिंग फिल्म बनती है। पारंपरिक वायवीय दोहरे द्रव छिड़काव की तुलना में, अल्ट्रासोनिक एटमाइजेशन स्प्रेइंग में बेहतर एकरूपता, पतली कोटिंग मोटाई और उच्च सटीकता है। इस बीच, चूंकि अल्ट्रासोनिक नोजल को एटमाइजेशन के लिए हवा के दबाव की आवश्यकता नहीं होती है, अल्ट्रासोनिक स्प्रेइंग का उपयोग कच्चे माल की छींटाकशी की छिड़काव प्रक्रिया को बहुत कम कर सकता है, जिससे कच्चे माल को बचाने के लक्ष्य को प्राप्त होता है। अल्ट्रासोनिक छिड़काव के साथ स्प्रे किए गए कोटिंग्स पारंपरिक दो द्रव छिड़काव के चार गुना से अधिक हैं।

अल्ट्रासोनिक नोजल उच्च आवृत्ति ध्वनि तरंगों को अनुदैर्ध्य उच्च-आवृत्ति कंपन के लिए यांत्रिक ऊर्जा में परिवर्तित करने के लिए पीज़ोइलेक्ट्रिक ट्रांसड्यूसर का उपयोग करते हैं। तरल तरंग अल्ट्रासोनिक नोजल की नोक से ऊपर की ओर फैली हुई है जब तक कि इसे समान रूप से आकार की बूंदों में अलग नहीं किया जाता है। द्वितीयक मोल्डिंग गैस या आसपास की हवा आसानी से बूंदों को वांछित आकार और गति में लपेट सकती है, इस प्रकार विभिन्न छिड़काव अनुप्रयोगों को प्राप्त कर सकती है।

Ultrasonic Spray Coater 2

चीन सौर कोशिकाओं का एक प्रमुख वैश्विक उत्पादक बन गया है। 2006 में, सौर कोशिकाओं का राष्ट्रीय उत्पादन 438MW था, और 2007 में, सौर कोशिकाओं का राष्ट्रीय उत्पादन 1188MW था। चीन यूरोप और जापान को पार करते हुए, सौर कोशिकाओं का दुनिया का सबसे बड़ा उत्पादक बन गया है। 2008 में उत्पादन में वृद्धि जारी रही, 2 मिलियन किलोवाट तक पहुंच गई।

सौर फोटोवोल्टिक कोशिकाओं (छोटी के लिए पीवी कोशिकाएं) का उपयोग सूर्य से सीधे प्रकाश ऊर्जा को विद्युत ऊर्जा में बदलने के लिए किया जाता है। बड़ी संख्या में सिलिकॉन-आधारित सौर कोशिकाओं का उपयोग ग्राउंड-आधारित फोटोवोल्टिक सिस्टम में किया जाता है, जिसे मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन, पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन और अनाकार सिलिकॉन सौर कोशिकाओं में विभाजित किया जा सकता है। ऊर्जा रूपांतरण दक्षता और सेवा जीवन के संदर्भ में, मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन और पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कोशिकाएं अनाकार सिलिकॉन कोशिकाओं से बेहतर हैं।

फोटोवोल्टिक सेल कोटिंग्स के लिए लागू:

अल्ट्रासोनिक छिड़काव तकनीक पतली फिल्मों और पेरोव्साइट सौर कोशिकाओं के निर्माण में एंटी परावर्तक परतें, टीसीओ कोटिंग्स, बफर लेयर कोटिंग्स, पेडोट और सक्रिय परतों को सफलतापूर्वक जमा कर सकती है। OPV, CIG, CDTE, CZT, Perovskite और DSC कुछ समाधान और निलंबन हैं जो अल्ट्रासोनिक वेट स्प्रेइंग तकनीक का उपयोग करके पतली फिल्म सौर कोशिकाओं की तैयारी में जमा किए जा सकते हैं। अल्ट्रासोनिक छिड़काव प्रणाली अभी भी उच्च सेल दक्षता प्रदान करते हुए पतली-फिल्म सौर कोशिकाओं के निर्माण की लागत को कम करती है।